Курс направлен на обучение студентов основам технологий изготовления и метрологии наноразмерных структур и устройств на их основе с использованием современных методов и подходов. В рамках курса студенты изучат методики нанесения металлических и диэлектрических тонких пленок, методики синтеза из газовой и жидкой фазы, процессы электронной и лазерной литографии, процессы жидкостного, плазменного и плазмохимического травления. Получат представления о метрологии наноструктур при помощи электронно-лучевой и зондовой микроскопии. В процессе курса студенты работают над технологическими проектами, в которых самостоятельно, с привлечением оригинальных публикаций и патентов, представляют технологию какого-либо уже реализованного устройства и аргументируют ее выбор. Получают навык работы на конкретных технологических и метрологических приборах.
1. Методы получения тонких пленок.
Плазменное и электронно-лучевое осаждение металлов, сплавов, сложных соединений в условиях высокого вакуума. Осаждение из газовой фазы слоистых наноструктур. Кулонометрический мониторинг при электроосаждении. Нанесение наноразмерных объектов на атомарно гладкие подложки физическим переносом. Применение электронно-лучевой и фотолитографии. Электронные и фоторезисты. Выборы доз экспонирования. Прямые и обратные (позитивные и негативные) процессы. “Взрывной” (lift-off) процесс. Лабораторный практикум по методам напыления.
2. Метрология наноструктур.
Основы метрологии, атомно-силовая микроскопия, туннельная микроскопия, электронно-лучевая микросокпия. Лабораторный практикум по метрологии.
1. Л. А. Сейдман, Е. В. Берлин, Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением.